研磨原理
磨盤與磨料：研磨是金相試樣制備的第一步，目的是去除切割過程中產(chǎn)生的變形層和損傷層。自動磨拋機通常配備不同粒度的磨盤，常見的磨盤材質(zhì)有碳化硅等。磨盤表面附著有磨料顆粒，這些磨料顆粒的硬度高于試樣材料。
試樣與磨盤的相對運動：工作時，試樣被固定在試樣夾或載樣臺上，磨盤在電機的驅(qū)動下高速旋轉(zhuǎn)。通過機械傳動裝置，試樣以一定的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的磨盤上，兩者之間產(chǎn)生相對運動。磨盤上的磨料顆粒就像無數(shù)微小的刀具，對試樣表面進行切削，從而去除試樣表面的材料，實現(xiàn)對試樣的研磨加工。
研磨參數(shù)控制：自動磨拋機可精確控制磨盤的轉(zhuǎn)速、試樣對磨盤的壓力以及研磨時間等參數(shù)。不同的研磨階段可根據(jù)需求調(diào)整這些參數(shù)，以達到不同的研磨效果。例如，在粗磨階段，通常使用較大的壓力和較低的轉(zhuǎn)速，以快速去除大量材料；在精磨階段，則使用較小的壓力和較高的轉(zhuǎn)速，以減少表面損傷并提高表面平整度。
拋光原理
拋光布與拋光液：拋光是在研磨基礎(chǔ)上進一步提高試樣表面的光潔度，消除研磨留下的磨痕，使試樣表面達到鏡面效果。自動磨拋機的拋光過程一般在拋光布上進行，常見的拋光布材質(zhì)有絲綢、呢絨等，其表面柔軟且具有一定的絨面結(jié)構(gòu)。同時，配合使用拋光液，拋光液中含有極細的拋光粉顆粒，如氧化鋁、二氧化硅等，這些拋光粉顆粒的硬度適中，能夠在不損傷試樣表面的前提下起到拋光作用。
拋光過程：拋光時，試樣同樣被固定在試樣夾上，并以一定壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光布上。拋光布在電機帶動下高速旋轉(zhuǎn)，同時向拋光布上自動添加拋光液。拋光粉顆粒在拋光布的絨面結(jié)構(gòu)中與試樣表面接觸，在壓力和摩擦力的作用下，對試樣表面進行微切削和研磨作用，填充和去除試樣表面的微觀缺陷和磨痕，使試樣表面逐漸變得光滑平整，最終達到鏡面效果。
拋光參數(shù)優(yōu)化：與研磨類似，拋光過程中的拋光布轉(zhuǎn)速、試樣壓力、拋光時間以及拋光液的添加量等參數(shù)也可以根據(jù)試樣材料和拋光要求進行優(yōu)化調(diào)整。合適的參數(shù)設(shè)置可以確保獲得高質(zhì)量的拋光表面，滿足金相分析的要求。
